如果华为招聘一名司机，是不是说明华为要进军汽车制造了。
如果华为招聘一名厨师，是不是说明华为要进军生物工程了。
如果华为招聘一名保安...
网传华为招聘光刻工艺师，还配了图，如果是真的，也是招聘一名光刻工艺流水线操作员，怎么就跟光刻机制造联系起来了。观者的沸腾是一种心情，写者的流量才是初衷。
但是如果华为招聘光刻工艺师是真的，还如果这个光刻恰好是半导体生产流水线的重要光刻工序的话，倒也能侧面证明华为有可能在筹备自建芯片生产线。这可能是这些消息里唯一积极的因素。
光刻工艺师是干什么的？
我们看看招聘简历怎么要求的，就知道光刻机工艺师是一个什么职位。
比如某公司光刻工艺工程师工作职责
1.负责硅基功率器件IGBT芯片、FRD芯片工艺开发
2.负责芯片制备工艺过程质量、良率等把控；
3.负责工艺流程确定，工艺实现，验证仿真结果；
4.负责工艺结果测试，评估，优化工艺过程及工艺参数；
以下内容来自某公司对光刻工艺工程师的具体工作要求
1，负责洁净室光刻区域的工艺调试、维护（参与装机、验机、程序设计和产品调试）；
2，负责净室光刻工艺运行记录书的撰写；
3，负责日常净室光刻区域工艺的维护、调试；
4，负责维护净室光刻区域工艺的稳定性；
5，光刻区域耗材厂商，化学品/材料供应商等的联络和往来；
6，协调与设备工程师和净室工程师之间的工作联系；
7，半导体微电子或相关专业，有半导体光刻区域相关2-3年工作经验；
8，熟悉SPC控制的原理及应用；
9，熟悉掌握半导体制造工艺流程。
大家可以看出，所谓光刻工艺工程师其实就是流水线工作人员，而且还要注意的是，这个光刻是否就是指芯片生产的前道光刻工序呢？因为，光刻机这个概念下，因为方向不同，应用的目标工序不同，光刻机的具体作用也不同，大众一般最关心，最为之沸腾的是ASML生产的那种前道工序光刻机。
光刻设备涵盖很多方向、很多工序，功能也不尽相同
用于半导体芯片生产流水线的光刻设备，分为前道光刻机，比如ASML这种；还有后道光刻机，比如上海微电子的一些产品。
前道光刻机主要用于芯片光刻，面对的客户是中芯国际、台积电这种。而后道光刻机主要用于芯片封装，面对的客户是长电科技这种。
其中，光刻机在后道的先进封装中，得到越来越广泛应用，上海微电子科技将科技攀登中，掌握或部分掌握的技术变成产品，将科技成果及时变现，研制出技术要求相对较低的后道光刻机，顺势形成产业链的多方向布局，甚至填补某些空白。目前上海微电子的后刻设备已经占领了80%以上的国内市场。
除了芯片流水线应用，LED领域也需要低端的光刻设备，比如大族激光研发的低端光刻机就应用在LED领域，LED领域的光刻机线宽要求相比很粗，同时它只是做单层光刻就可以了，不像我们平常所说的集成电路（IC）光刻机那样要通过多层光刻。
所以，华为申请了几个光刻设备专利，能说明什么呢？且不说，专利离产品规划、产品研发还有多远，有没有专家告知一下，网传的那几张有些年头的光刻专利，是否可用于类似ASML的光刻技术？
光刻机是集全球科技、工业大成的设备，单个国家完成尚且困难，何况一个企业呢
半导体芯片产业链分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。光刻的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻工艺定义了半导体器件的尺寸，是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤。
光刻工艺难度最大、耗时最长，芯片在生产过程中一般需要进行20~30次光刻，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%，成本极高，约为整个芯片制造工艺的1/3。
光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平。
光刻机是人类工业文明的智慧结晶，全球工艺集大成者，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。
高精度光刻机的技术难关有多少
高端光刻机集合了全球各国最顶尖的科技，如：德国的蔡司镜头技术、美国的控制软件和光源、日本的特殊复合材料等。
镜头关：
蔡司是光学和光电行业国际领先的科技企业，研发并销售半导体制造设备、测量技术、显微镜、医疗技术、眼镜镜片、相机和摄影镜头、望远镜和天文馆技术。在半导体制造设备领域，卡尔蔡司在光刻领域提供了主流纳米光刻光学系统和极紫外13.5纳米光学系统。
EUV光刻机的镜片便是以蔡司技术打底，CarlZeiss（卡尔蔡司）是光学及光电子学领域的绝对权威，长期以来为ASML的光刻设备提供最关键且高效能的光学系统。
光源关：
源则是高端光刻机另一核心部件，光源波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源。如EUV光刻机所采用的波长13.5nm的极紫外光，这在光学系统中是极为复杂的。
年ASML收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，加速了EUV光源技术的发展，为光源技术提供了保障。
定制关：
光刻机是高度定制设备，与晶圆代工企业的工艺设计和技术水平息息相关。所以，光刻技术的沉淀和发展，有来自下游厂家在一线实践中的经验总结和技术魔改的反向推动。
台积电和三星都有最新EUV光刻设备，但工艺还是有先进性的差别，台积电的EUV成熟，良品率高，且芯片性能更稳定，有更好的效能比。
认清现实，迈步发展
我们的光刻机目前还停留在90nm阶段，更先进的光刻机还得靠进口，技术上需要依赖他国的先进工业成果，这是中国光刻机行业的现实。
华为已经在B计划的展示中，让我们看到了很多惊喜和意外，但光刻机是泛工业领域内的产品，它需要我们整体工业链的共同进步，需要我们的科研力量在各个方向上，尽快将试验品转换成产品，形成合力，才有可能实现突破。
华为是我们科技的领头羊，如果华为能够在中短期内，能组建具备一定生产能力的芯片加工流水线，就足以为我们带来震撼了。
困难再大也要克服，道路漫长也要前行，我们没有退路。